日本佳能推出纳米压印半导体制造设备

佳能于 10 月 13 日宣布，已将 FPA-1200NZ2C 商业化，这是一种纳米压印半导体制造系统，利用纳米压印光刻（NIL）技术实现尖端半导体电路的形成，并于当天开始接受订单。纳米压印半导体制造...