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非光刻方案,佳能开始销售 5nm 芯片生产设备

2023-10-16 16:39 已有人浏览 作者

IT之家 10 月 14 日消息,佳能(Canon)公司近日发布新闻稿,开始销售芯片生产设备 FPA-1200NZ2C,表示采用不同于复杂光刻技术的方案,可以制造 5 nm 芯片。

非光刻方案,佳能开始销售 5nm 芯片生产设备(1)

佳能表示这套生产设备的工作原理和行业领导者 ASML 不同,并非光刻,而更类似于印刷,没有利用图像投影的原理将集成电路的微观结构转移到硅晶圆上。

非光刻方案,佳能开始销售 5nm 芯片生产设备(2)

这套设备可以应用于最小 14 平方毫米的硅晶圆,从而可以生产相当于 5nm 工艺的芯片。

非光刻方案,佳能开始销售 5nm 芯片生产设备(3)

佳能表示会继续改进和发展这套系统,未来有望用于生产 2nm 芯片。

IT之家注:纳米印刷(Nanoprinted lithography)通常被认为是光学光刻的低成本替代品,SK 海力士和铠侠等存储芯片制造商过去曾尝试过使用。铠侠此前进行过测试,不过潜在客户提出投诉,认为产品缺陷率较高,最后选择放弃。

非光刻方案,佳能开始销售 5nm 芯片生产设备(4)

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