外媒eNewsEurope报道，英特尔和台积电将在国际电子元件会议（IEDM）公布垂直堆叠式（CFET）场效晶体管进展，这有望使CFET成为十年内最可能接替全环绕栅极晶体管（GAA）的下一代先进制程。
CFET场效晶体管将n和p两种MOS元件堆叠在一起，以实现更高的密度。该项技术最初由比利时微电子研究中心（IMEC）于2018年所提出的。虽然，大多数早期研究以学术界为主，但英特尔和台积电等半导体企业现在已经开始这一领域的研发，借此积极探索这种下一代先进晶体管技术。
英特尔表示，研究员建构一个单片3DCFET，含三个n-FET纳米片，层叠在三个p-FET纳米片上，保持30纳米垂直间隙，英特尔公司在题为 "60纳米栅极间距的堆叠式CMOS逆变器演示（带电源通路和直接背面器件触点）"的演讲中将介绍利用60纳米栅极间距CFET的功能性逆变器测试电路。该技术还采用了垂直分层双电源漏外延和双金属栅极堆叠，并结合PowerVia背后供电等技术。
为了不被对手超越，台积电也会展示CFET技术。据悉，台积电客制逻辑芯片具有48纳米栅极间距，专注放在p型晶体管上的分层n型纳米片晶体管，拥有跨越六个等级的开关电流比。
台积电表示，CFET晶体管已证明耐用性超过90%，且成功通过测试。虽然台积电承认需要研究更多，才能充分利用CFET技术，但目前正在进行的工作是实现这一目标的关键一步。
