终端市场需求低迷，近期市场传出台积电将宣布调降今年资本支出，恐冲击艾司摩尔（ASML）及应用材料等设备厂出货，甚至传出艾司摩尔极紫外光（EUV）机台被砍单消息，不过业界普遍认为可能性不高，原因在于EUV机台交期长达12～15个月，且中长期来看EUV产能仍供不应求。
ASML预计19日举行法人说明会，可望针对EUV曝光机已接订单（backlog）变化提出说明。半导体生产链仍在进行库存调整，市场传出台积电可能在法人说明会中下修全年资本支出，加上内存厂放慢扩产计划，将导致EUV曝光机订单减少或延后，受此消息影响，EUV概念股家登、帆宣17日股价明显有压。
不过，业界人士对于EUV曝光机被砍单消息有所质疑，主要原因在于EUV设备是属于订制化生产，且设备系统交期长达12～15个月，所以采购EUV机台是属于中长期的产能规划，并不会因为短期的景气循环波动而砍单。
以目前主流的0.33数值孔径（NA）来说，5纳米逻辑制程每片晶圆平均EUV光罩层逾10层，但3纳米逻辑制程每片晶圆平均EUV光罩层约将倍增达20层以上，而EUV机台每小时晶圆产出（throughput）提升缓慢，随3纳米制程开始导入量产，反而需要更多机台因应产能提升及制程微缩，整体EUV产能仍供不应求。
业者表示，短期景气循环冲击半导体厂资本支出，但台积电、英特尔、三星等大厂在先进制程的投资并没有缩减，所以EUV曝光机交期也没有因近期景气变动而缩短。目前业界普遍认为市场景气下半年缓步复苏，明年进入新的成长循环，所以不太可能在这个时间点对EUV机台砍单。
