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尼康投放光刻机新产品 寻求逆势开拓中国市场

2023-11-15 10:33 已有人浏览 作者

据三菱UFJ摩根士丹利证券数据显示,目前在全球光刻机市场中,掌握了62%市场份额的ASML排行第一,佳能以占比31%取得第二名,而尼康占比仅7%排在了第三位。不过据日经新闻报道,尼康为了重振业绩将转变半导体光刻机业务的战略,决定逆势积极开拓中国市场,向中国出口不受出口管制限制的成熟设备。

在美国对华实施出口管制的背景下,EUV等先进光刻机、材料被禁止对华出口。尼康精机业务负责人滨谷正人表示,正与日本经济产业省讨论,认为新款光刻机没有问题,将在中国市场积极销售。

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目前尼康除了相机影像业务外,半导体设备相关的精机业务同样是支柱,但与相机销售强劲形成对比的是精机业务表现低迷。尼康公司预计2023财年(截至2024年3月)合并利润将同比减少22%,降至350亿日元。

日本的尼康、佳能曾在1990年之前主导全球光刻机市场,但后来在更先进的极紫外(EUV)光刻机方面输给了荷兰的ASML。极紫外光刻机在2010年后半期实用化,全世界只有ASML能够生产;而尼康的光刻机产品分散在各种光源上,并没有强势领域。

为了打开局面,尼康将时隔24年于2024年推出采用成熟技术的光刻机新产品,着眼于适合制造需要耐久性的功率半导体等的特点,选择使用i-Line光源技术 —— 最早在90年代初实用化,是老一代光源技术。有分析认为,尼康将在新产品使用通用的电子零部件等,价格能够比佳能便宜2-3成左右。

另外值得注意的是,佳能近期宣布推出“纳米压印设备”,有望替代EUV光刻机,制造5nm及以下制程芯片。

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