据三菱UFJ摩根士丹利证券数据显示，目前在全球光刻机市场中，掌握了62%市场份额的ASML排行第一，佳能以占比31%取得第二名，而尼康占比仅7%排在了第三位。不过据日经新闻报道，尼康为了重振业绩将转变半导体光刻机业务的战略，决定逆势积极开拓中国市场，向中国出口不受出口管制限制的成熟设备。

在美国对华实施出口管制的背景下，EUV等先进光刻机、材料被禁止对华出口。尼康精机业务负责人滨谷正人表示，正与日本经济产业省讨论，认为新款光刻机没有问题，将在中国市场积极销售。

目前尼康除了相机影像业务外，半导体设备相关的精机业务同样是支柱，但与相机销售强劲形成对比的是精机业务表现低迷。尼康公司预计2023财年（截至2024年3月）合并利润将同比减少22%，降至350亿日元。

日本的尼康、佳能曾在1990年之前主导全球光刻机市场，但后来在更先进的极紫外（EUV）光刻机方面输给了荷兰的ASML。极紫外光刻机在2010年后半期实用化，全世界只有ASML能够生产；而尼康的光刻机产品分散在各种光源上，并没有强势领域。

为了打开局面，尼康将时隔24年于2024年推出采用成熟技术的光刻机新产品，着眼于适合制造需要耐久性的功率半导体等的特点，选择使用i-Line光源技术 —— 最早在90年代初实用化，是老一代光源技术。有分析认为，尼康将在新产品使用通用的电子零部件等，价格能够比佳能便宜2-3成左右。

另外值得注意的是，佳能近期宣布推出“纳米压印设备”，有望替代EUV光刻机，制造5nm及以下制程芯片。